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韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)

韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)

產(chǎn)品介紹

韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)

型號(hào):NanoView-1800/NanoView-2400/NanoView-2700

 

高精度非接觸式表面形貌檢測

無損3D表面輪廓分析

宜用平臺(tái)提供快速、高效的工藝流程的監(jiān)控

全面、直觀的軟件提供了式樣和應(yīng)用靈活性

 

 

主要功能

3D形貌測量

高,深,間隔(從納米級(jí)到5mm

粗糙度(R參數(shù))表面(S參數(shù))

面積信息(體積,面積)

2D測量

 

NanoView可靠性在許多應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮性能。

NanoView 提供完整的表面形貌納米測量和分析技術(shù)方案。

 

韓國NanoSystem非接觸光學(xué)表面形貌測量系統(tǒng)

NV-Serise技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

NanoView-1800

NanoView-2400

NanoView-2700

測量原理

非接觸三維 白光掃描干涉法(WSI/移相干涉法(PSI

現(xiàn)場放大鏡

1.0×(標(biāo)配)

1.0×(標(biāo)配)

1.0×(標(biāo)配)

物鏡

單鏡頭

可選5個(gè)鏡頭(手動(dòng)鼻輪)

可選5個(gè)鏡頭(自動(dòng)鼻輪)

光源

白光LED光源

掃描方式

閉環(huán)控制壓電促動(dòng)掃描方式

縱向掃描范圍

Max 270um(可拓展到:5mm

縱向掃描速度

12um/sec1X~5X倍率可選)

傾斜

±3°(樣品臺(tái)傾斜)

頭部傾斜±5°(手動(dòng)模式)

頭部傾斜±5°(自動(dòng)模式)

縱向分辨率

WSI:0.5nm / PSI:0.1nm

橫向分辨率

0.2~4um(取決于物鏡/視場放大鏡倍率)

臺(tái)階重復(fù)性

0.5%1s

XY樣品臺(tái)行程

140×140mm(手動(dòng))

230×230mm(自動(dòng))

230×230mm(自動(dòng))

XY樣品臺(tái)行程

50×50mm(手動(dòng))

100×100mm(手動(dòng))

100×100mm(自動(dòng))

Z軸行程

30mm(手動(dòng))

100mm(手動(dòng))

100mm(自動(dòng))

環(huán)境要求

溫度:15~30℃,溫度變化量:<1/15min

濕度:<60%,無凝結(jié)

 


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